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自发形核是指在没有外来界面的均匀熔体中的形核过程
A、正确;
B、错误
发布时间:
2025-05-31 11:36:47
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正确
相关试题
1.
自发形核是指在没有外来界面的均匀熔体中的形核过程
2.
非自发形核与自发形核的临界形核半径 。
3.
非自发形核与自发形核的临界形核功一致。
4.
非均匀形核总是比均与均匀形核容易,因为非均匀形核一般是以外加固体杂质作为现成晶核,不需要形核功。
5.
液态金属结晶时,均匀形核和非均匀形核相比,( )是正确的。
6.
均匀形核时所需形核功为三分之二的表面自由能。
7.
再结晶过程包括形核与长大,
8.
形核功
9.
成分过冷度大于异质形核所需过冷度,内部熔体中产生等轴晶。
10.
调幅分解也是形核与长大过程。
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