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真空蒸镀法的主要特点?
真空蒸镀法的主要特点?
发布时间:
2025-08-06 21:50:25
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(
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答案:
答:1)设备及工艺操作简单;2)可以镀不良导体,玻璃、纤维、纸等;3)沉积速度快;4)高熔点和低蒸气压物质如铂、钼等真空镀膜制作困难;5)绕镀性差;6)镀层较疏松,与基体结合力较弱,耐冲击和磨损性差。
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真空蒸镀法的主要特点?
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真空蒸镀是常用的加工纳米材料和纳米结构的方法。真空蒸镀法可以制备出纯度高、结晶性好、尺寸组份可控的纳米材料。( )
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蒸法
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减压蒸馆时应先加热再抽真空。
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