光刻胶
光刻胶
发布时间：2024-12-26 15:54:46
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答案：又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
相关试题
- 1.光刻胶
- 2.光刻胶的最小曝光量（ ）
- 3.光刻胶的性能指标中，最重要的是： 。
- 4.光刻胶的性能指标中，最重要的是
- 5.如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。
- 6.一种光刻胶通常只工作在某一特定波长范围。
- 7.(在下面选择一个,填入)光刻胶.金属.二氧化硅.多晶硅
- 8.利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中，掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉。
- 9.A、硝酸、硫酸等氧化剂与丙酮、乙醇、光刻胶、清洁棉、纸等混合可能会引起燃烧B、硝酸盐与脂混合可能爆炸C、液态空气或者液态氧与有机物质混合可能爆炸D、高氯酸与盐酸混合可能爆炸
- 10.光刻机是制造芯片的最关键设备，光刻技术是现代纳米级电路的基石，它是指利用透镜将绘制在掩膜上的电路通过紫外光投射到涂有光刻胶的硅片上，从而制造出集成电路的方法，其工作原理如图所示，此时恰好在硅片上成清晰的像
