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光刻胶
光刻胶
发布时间:
2024-12-26 15:54:46
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(
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答案:
又称光致抗蚀剂,由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。
相关试题
1.
光刻胶
2.
光刻胶的最小曝光量( )
3.
光刻胶的性能指标中,最重要的是: 。
4.
光刻胶的性能指标中,最重要的是
5.
如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶,则这种光刻胶为正胶。
6.
一种光刻胶通常只工作在某一特定波长范围。
7.
光刻工艺中光刻胶涂布的均匀性只与工作环境的温度有关。
8.
(在下面选择一个,填入)光刻胶.金属.二氧化硅.多晶硅
9.
在集成电路中,将掩膜版上的图形转移到光刻胶上的图形化工艺是 。
10.
利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中,掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉。
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