找答案
考试指南
试卷
请在
下方输入
要搜索的题目:
搜 索
以下不是集成电路制造工艺特点的是:
A、超净 ;
B、高精度;
C、低精度 ;
D、超纯
发布时间:
2024-10-23 16:59:02
首页
国家电网
推荐参考答案
(
由 快搜搜题库 官方老师解答 )
联系客服
答案:
低精度
相关试题
1.
以下不是集成电路制造工艺特点的是:
2.
以下哪项是集成电路制造工艺中常用的薄膜沉积技术( )。
3.
集成电路制造工艺中,以下对氧化速率没有影响的因素是: 。
4.
集成电路制造流程包括以下()。
5.
以下哪个不是大采高工作面的工艺特点()。
6.
CMOS集成电路芯片制造的基底材料是硅。
7.
()工艺是桥梁制造的重中之重。
8.
目前所制造的计算机所采用的电子器件是集成电路。
9.
以下()不是材料的热处理工艺过程。
10.
二氧化硅膜在集成电路工艺中的作用包括?( )。
热门标签
市场营销考试题库
军队文职题库
公务员试题题库
结构化面试题库及答案
财务会计考试题库
三类人员考试题库
图形推理题库及答案
知识产权考试题库
事业单位招聘考试题库
信用社考试题库
社区专职工作者考试题库
公务员题库
砖题库题库
社工题库
高中语文教师资格证面试题库
华图砖题库
公文题库
护士考试题库
国网题库
社区的题库