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集成电路制造工艺中,以下对氧化速率没有影响的因素是: 。
A、温度 ;
B、厚度 ;
C、硅晶向 ;
D、掺杂
发布时间:
2025-02-27 11:06:01
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(
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答案:
厚度
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1.
集成电路制造工艺中,以下对氧化速率没有影响的因素是: 。
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