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光刻是集成电路制造最重要的工艺,是因为()。
A、光刻成本最高;
B、光刻耗费时间最少;
C、光刻耗费时间最多;
D、光刻决定了特征尺寸
发布时间:
2025-05-09 03:29:16
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(
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答案:
光刻成本最高 ■光刻耗费时间最多 ■光刻决定了特征尺寸
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1.
光刻是集成电路制造最重要的工艺,是因为()。
2.
以下不是集成电路制造工艺特点的是:
3.
光刻技术是集成电路制造工序中的核心工序之一,直接影响器件的性能。
4.
光刻是IC制造中最关键的工艺,光刻成本在整个硅片加工成本中几乎占到三分之一。
5.
以下哪项是集成电路制造工艺中常用的薄膜沉积技术( )。
6.
集成电路制造工艺中,以下对氧化速率没有影响的因素是: 。
7.
集成电路制造流程包括以下()。
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在光刻工艺中为什么会出现浮胶?
9.
光刻技术中的反刻工艺,通常应用于()的情况
10.
CMOS集成电路芯片制造的基底材料是硅。
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