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光刻是IC制造中最关键的工艺,光刻成本在整个硅片加工成本中几乎占到三分之一。
A、正确;
B、错误
发布时间:
2025-03-31 03:18:11
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相关试题
1.
光刻是IC制造中最关键的工艺,光刻成本在整个硅片加工成本中几乎占到三分之一。
2.
供IC制造工艺中使用的光刻掩膜版的图形,称为( )。
3.
光刻是集成电路制造最重要的工艺,是因为()。
4.
在光刻工艺中为什么会出现浮胶?
5.
光刻技术中的反刻工艺,通常应用于()的情况
6.
相比于其他单个制造工艺来说,光刻对芯片集成度的发展有着革命性的贡献。
7.
简述光刻解析度
8.
光刻技术是集成电路制造工序中的核心工序之一,直接影响器件的性能。
9.
光刻工艺中光刻胶涂布的均匀性只与工作环境的温度有关。
10.
数字投影微光刻技术相较于传统平面光刻的优势为
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