找答案
考试指南
试卷
请在
下方输入
要搜索的题目:
搜 索
简述光刻解析度
简述光刻解析度
发布时间:
2025-03-10 14:42:56
首页
八大员
推荐参考答案
(
由 快搜搜题库 官方老师解答 )
联系客服
答案:
所谓解析度是在晶圆表面涂布的光刻胶上经曝光形成的图案中,分辨两个最靠近的尺寸的能力。其中最小的尺寸就是所谓集成电路晶片(晶圆)上最窄(细)的线宽,也称之为特征尺度。
相关试题
1.
简述光刻解析度
2.
光刻加工主要用于()
3.
光刻是IC制造中最关键的工艺,光刻成本在整个硅片加工成本中几乎占到三分之一。
4.
在光刻工艺中为什么会出现浮胶?
5.
光刻是集成电路制造最重要的工艺,是因为()。
6.
光刻和刻蝕の目の是什麼?(20分)
7.
光刻技术中的反刻工艺,通常应用于()的情况
8.
光刻技术是集成电路制造工序中的核心工序之一,直接影响器件的性能。
9.
2、光刻要求硅片表面上存在的图案与掩膜版上的图形准确对准,这种特性指标我们称为 。
10.
简述简述“十四个坚持”的基本内涵。
热门标签
公务员面试题库及答案
国网题库
行政管理题库及答案
综合考试题库
民法考试题库
初级考试题库
心理学题库及答案
社区考试题库
公务员常识题库
辅警题库
公务员题库app
英语单选题库
社区题库
教育学心理学题库
政治理论题库
小学语文面试真题题库
能力测试题库
商业银行考试题库
银行考试题库
面试题题库