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何谓刻蚀?刻蚀速率?刻蚀的选择性?湿法刻蚀和干法刻蚀的比较?
何谓刻蚀?刻蚀速率?刻蚀的选择性?湿法刻蚀和干法刻蚀的比较?
发布时间:
2025-06-04 05:14:46
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答案:
答:刻蚀是将形成在晶圆表面上的薄膜全部,或特定处所去除至必要厚度的制程。刻蚀速率是单位时间内去除的刻蚀材料厚度或深度。刻蚀的选择性,又称刻蚀速率比,是指在刻蚀过程中不同材料的刻蚀速率比。湿法刻蚀主要采用化学腐蚀进行,是传统的刻蚀工艺。它具有各向同性的缺点,因而精度差,线宽一般在3um以上。而干法刻蚀(又称等离子体刻蚀)是因大规模集成电路生产的需要而开发的精细加工技术,它具有各向异性特点,在最大限度上保证了纵向刻蚀。
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刻蚀的主要参数包括刻蚀速率、刻蚀因子、刻蚀选择性、刻蚀清洁度和
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以下特种加工工艺种,可达到纳米级加工精度的是A.电子束光刻B.离子刻蚀C.快速成型D.激光切割
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