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刻蚀的主要参数包括刻蚀速率、刻蚀因子、刻蚀选择性、刻蚀清洁度和
刻蚀的主要参数包括刻蚀速率、刻蚀因子、刻蚀选择性、刻蚀清洁度和
发布时间:
2025-05-13 03:37:43
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答案:
均匀性
相关试题
1.
刻蚀的主要参数包括刻蚀速率、刻蚀因子、刻蚀选择性、刻蚀清洁度和
2.
何谓刻蚀?刻蚀速率?刻蚀的选择性?湿法刻蚀和干法刻蚀的比较?
3.
随后,选用具有刻蚀选择性的湿法刻蚀液,利用晶态与非晶态 GST 在刻蚀速率上的差异,
4.
中国大学MOOC: 反应离子刻蚀进行刻蚀过程中
5.
太阳能电池片的生产工艺流程为:制绒、 、刻蚀、 、 。
6.
氮化硅湿法刻蚀常常采用的湿法腐蚀液为: 。
7.
常见的刻蚀方法分为哪两类及其他们的特点?
8.
单晶硅刻蚀一般采用做掩蔽层.(在下面选择一个,填入)光刻胶.金属.二氧化硅.多晶硅
9.
以下特种加工工艺种,可达到纳米级加工精度的是A.电子束光刻B.离子刻蚀C.快速成型D.激光切割
10.
采用光刻蚀的方法在硅基片表面加工出纳米级结构,并通过硅烷化疏水处理可构建一层具有超疏水性的纳米结构。
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