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单晶硅在室温下的禁带宽度
单晶硅在室温下的禁带宽度
发布时间:
2025-03-06 11:22:55
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口腔医学技术
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答案:
1.11
相关试题
1.
单晶硅在室温下的禁带宽度
2.
室温下,氮化镓的禁带宽度是 。
3.
宽禁带半导体材料的禁带宽度是( )
4.
本征硅的禁带宽度为
5.
禁带的宽度与周期性势场有关,禁带出现的位置与晶体结构有关。
6.
Cu2O是n型半导体,其禁带宽度仅为2.2ev。( )
7.
只有光的能量小于材料的禁带宽度时才可透过,可见光的能量在3.1eV左右,而ITO的禁带宽度在3.5eV,所以对可见光为透明而对紫外光为吸收。( )
8.
从能级角度上看,导体就是禁带宽度很小的半导体
9.
半导体光催化材料的禁带宽度越大,太阳光谱的吸收范围越大。
10.
半导体激光器发射光子的能量近似等于材料的禁带宽度,已知某材料的禁带宽度Eg=1.39eV,则其发射波长为( )nm(结果保留小数点后3位即可)
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