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据上述第2步的不同一般常用有三种淀积方式:常压化学气相淀积(APCVD)、
据上述第2步的不同一般常用有三种淀积方式:常压化学气相淀积(APCVD)、
发布时间:
2025-05-11 00:57:56
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(
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答案:
低压化学气相淀积(LPCVD)、等离子体增强化学气相淀积(PECVD)。
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1.
据上述第2步的不同一般常用有三种淀积方式:常压化学气相淀积(APCVD)、
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LPCVD的含义是A.低压化学气相淀积B.常压化学气相淀积C.等离子体化学气相淀积D.光化学气相淀积
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低压化学气相淀积与常压化学气相淀积法相比,优点有?
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