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低压化学气相淀积与常压化学气相淀积法相比,优点有?
低压化学气相淀积与常压化学气相淀积法相比,优点有?
发布时间:
2025-05-18 09:12:20
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答案:
①晶体生长或成膜的质量好;②淀积温度低,便于控制;③可使淀积衬底的表面积扩大,提高淀积效率。
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低压化学气相淀积与常压化学气相淀积法相比,优点有?
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LPCVD的含义是A.低压化学气相淀积B.常压化学气相淀积C.等离子体化学气相淀积D.光化学气相淀积
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宗气积于:
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